전체 글47 반도체 포토리소그래피란? 원리와 공정 과정 쉽게 이해하기 반도체 포토리소그래피란? 반도체 제조에서 가장 중요한 **포토리소그래피(Photolithography)** 공정에 대해 알아보겠습니다.1. 반도체 포토리소그래피란?포토리소그래피(Photolithography)는 반도체 칩을 제조하는 과정에서 미세한 회로 패턴을 웨이퍼에 형성하는 핵심 공정입니다.이 기술을 통해 반도체 소자의 크기를 나노미터(nm) 단위로 미세화할 수 있으며, 성능 향상과 집적도 증가를 가능하게 합니다.🔹 포토리소그래피의 핵심 원리빛(광원)을 이용하여 웨이퍼에 패턴을 새기는 기술특수 감광물질인 포토레지스트(Photoresist)를 활용노광(Lithography), 현상(Develop), 식각(Etching) 과정을 거쳐 원하는 회로 형성2. 포토리소그래피 공정 과정① 웨이퍼 세척 및 포토.. 2025. 3. 7. 반도체 산화 공정이란? 반도체 산화 공정이란? 원리와 종류 쉽게 설명반도체 제조 과정에서 필수적인 산화 공정의 원리와 종류, 그리고 주요 활용 사례를 알아보겠습니다.1. 반도체 산화 공정이란?반도체 산화 공정(Oxidation Process)은 실리콘 웨이퍼 표면에 산화막(SiO2)을 형성하는 과정입니다. 이 산화막은 반도체 소자의 절연층 역할을 하며, 소자의 성능과 신뢰성을 결정하는 중요한 공정 중 하나입니다.🔹 산화막의 주요 역할절연층: 트랜지스터의 게이트 절연막으로 사용보호막: 불순물 확산 방지마스크 역할: 이온 주입 공정에서 특정 영역 보호2. 반도체 산화 공정의 종류① 열 산화(Thermal Oxidation)웨이퍼를 고온(800~1200℃)에서 산소 또는 수증기와 반응시켜 산화 실리콘(SiO₂)을 형성하는 방식입니.. 2025. 3. 4. 반도체 수율 – 제조 공정에서 수율을 높이는 핵심 기술 반도체 수율 – 제조 공정에서 수율을 높이는 핵심 기술반도체 수율(Yield)은 반도체 생산에서 가장 중요한 요소 중 하나입니다. 이번 글에서는 반도체 수율이 무엇인지, 왜 중요한지, 그리고 어떻게 향상시킬 수 있는지에 대해 알아보겠습니다.1. 반도체 수율이란?반도체 수율(Yield)은 반도체 제조 공정에서 **웨이퍼(wafer)에서 생산된 칩 중 정상적으로 작동하는 칩의 비율**을 의미합니다.✔ 반도체 수율 공식반도체 수율은 일반적으로 다음과 같은 공식으로 계산됩니다:수율 (%) = (정상 작동 칩 개수 / 총 생산 칩 개수) × 100✔ 반도체 수율의 중요성**제조 비용 절감** – 수율이 높을수록 동일한 비용으로 더 많은 칩 생산 가능**반도체 가격 경쟁력 확보** – 높은 수율을 유지하는 기업이 .. 2025. 3. 3. 반도체 트랜지스터 역할 – 반도체 소자의 핵심 기술 반도체 트랜지스터 역할 – 반도체 소자의 핵심 기술 트랜지스터(Transistor)는 반도체 소자의 가장 중요한 구성 요소 중 하나로, 신호 증폭과 스위칭 기능을 수행합니다. 이번 글에서는 트랜지스터의 역할과 반도체 기술에서 차지하는 중요성을 살펴보겠습니다. 1. 트랜지스터란? 트랜지스터(Transistor)는 전류 또는 전압을 조절하는 **반도체 소자**로, 컴퓨터, 스마트폰, 자동차 등 다양한 전자기기의 핵심 부품입니다. ✔ 트랜지스터의 기본 기능 전기 신호를 **증폭(Amplification)** 전류를 켜고 끄는 **스위칭(Switc.. 2025. 3. 2. 실리콘 웨이퍼 제조 공정 – 반도체 핵심 소재의 생산 과정 실리콘 웨이퍼 제조 공정 – 반도체 핵심 소재의 생산 과정 반도체의 핵심 부품인 실리콘 웨이퍼는 고도로 정밀한 제조 공정을 거쳐 생산됩니다. 이번 글에서는 실리콘 웨이퍼가 어떻게 만들어지는지 그 단계별 공정을 자세히 살펴보겠습니다. 1. 실리콘 웨이퍼란? 실리콘 웨이퍼(Silicon Wafer)는 반도체 칩을 만들기 위한 **얇고 평평한 원형 판**으로, **고순도의 실리콘(Si)을 이용해 제작**됩니다. 웨이퍼 위에 반도체 회로를 형성하여 최종적으로 **CPU, 메모리, 센서 등 다양한 전자 부품**을 생산합니다. 2. 실리콘 웨이퍼 제조 공정 실리콘 웨이퍼는 **.. 2025. 3. 1. 반도체 공정 미세화란? 최신 기술과 전망 반도체 공정 미세화란? 최신 기술과 전망반도체 공정이 3나노, 2나노 시대를 맞이하며 미세화가 왜 중요한지, 어떤 기술이 적용되는지 분석합니다.1. 반도체 공정 미세화란?반도체 공정 미세화란 반도체 칩 내부의 트랜지스터 크기를 줄이고, 회로 선폭을 더욱 좁게 만드는 기술을 의미합니다.예를 들어, 5나노(nm) 공정은 회로 선폭이 5나노미터(1nm = 10억 분의 1m)라는 뜻입니다. 공정이 미세해질수록 더 많은 트랜지스터를 집적할 수 있으며, 이는 성능 향상과 전력 효율 개선으로 이어집니다.2. 반도체 공정 미세화의 필요성고성능 컴퓨팅: 트랜지스터 개수가 증가하면서 연산 속도가 빨라집니다.전력 효율 개선: 전력 소비가 줄어 배터리 지속 시간이 늘어납니다.소형화 가능: 더 작은 크기의 칩을 만들 수 있어 .. 2025. 2. 28. 이전 1 2 3 4 5 ··· 8 다음