반도체미래2 차세대 반도체 기술 – 3나노 공정과 미래 반도체 혁신 차세대 반도체 기술 – 3나노 공정과 미래 반도체 혁신반도체 기술이 빠르게 발전하면서 3나노 공정이 주목받고 있습니다. 이번 글에서는 차세대 반도체 기술과 3나노 공정의 특징, 그리고 미래 반도체 혁신 방향을 살펴보겠습니다.1. 차세대 반도체 기술이란?반도체 기술은 지속적으로 발전하고 있으며, 특히 반도체 공정이 미세해질수록 더 높은 성능과 낮은 전력 소비를 실현할 수 있습니다.현재 가장 앞선 반도체 제조 기술은 3나노(nm) 공정으로, 삼성전자와 TSMC가 주도하고 있습니다.2. 3나노 공정이란?3나노 공정은 반도체 트랜지스터의 크기를 3나노미터(1nm = 10억 분의 1m)까지 줄인 기술입니다.이 기술은 기존 5nm 공정보다 전력 효율을 높이고 성능을 향상시키는 데 중요한 역할을 합니다.✔ 3나노 공.. 2025. 2. 13. 집적회로(IC)의 발전 과정과 반도체 기술의 진화 집적회로(IC)의 발전 과정과 반도체 기술의 진화 집적회로(IC)는 현대 반도체 기술의 핵심 요소입니다. 이번 글에서는 IC의 발전 과정과 반도체 기술의 변화 과정을 자세히 살펴보겠습니다. 1. 집적회로(IC)란 무엇인가? 집적회로(Integrated Circuit, IC)는 여러 개의 전자 소자를 하나의 반도체 칩 위에 집적한 전자 부품을 의미합니다. IC는 트랜지스터, 저항, 커패시터 등을 하나의 실리콘 기판에 집적하여 크기를 줄이고 성능을 향상시키는 데 기여했습니다. 오늘날 스마트폰, 컴퓨터, 자동차 등 모든 전자 기기에 필수적으로 사용됩니다. 2. 집적회로의 발전 과정 집적회로 기술.. 2025. 2. 12. 이전 1 다음